RTP4-1200型(xing)快速(su)退(tui)火爐(lu)快速(su)熱(re)處(chu)理(li)退(tui)火爐(lu)簡(jian)稱 RTP（Rapid Thermal Processing Furnace），在吸(xi)收了(le)生(sheng)產制(zhi)造工(gong)藝(yi)的基礎上(shang)自(zi)主研(yan)發了(le)該款(kuan)產品(pin)。該(gai)設備不但(dan)擁(yong)有極(ji)快的升溫速(su)率200℃/S，而且(qie)在燒(shao)結(jie)工(gong)藝(yi)運行完結(jie)，直接將(jiang)試(shi)樣(yang)在高溫區(qu)取出(chu)。實(shi)現(xian)物(wu)理狀(zhuang)態(tai)下的最快降溫。我(wo)們的工(gong)程(cheng)師們巧妙地(di)利(li)用(yong)了(le)冷壁工(gong)藝(yi)，在綠(lv)色節(jie)能環保的基礎上(shang)真(zhen)正的實(shi)現(xian)了(le)試(shi)樣(yang)的極(ji)速(su)升降(jiang)溫.多重保護(hu)功(gong)能，過(guo)溫報

HTR-4立式(shi)4寸(cun)快速(su)退(tui)火爐(lu)（芯片(pian)熱(re)處(chu)理(li)設備）廣泛(fan)應(ying)用在IC晶(jing)圓(yuan)、LED晶(jing)圓(yuan)、MEMS、化(hua)合物(wu)半(ban)導體(ti)和功(gong)率器件(jian)等多種(zhong)芯片(pian)產(chan)品的生(sheng)產，和歐姆(mu)接觸(chu)快速(su)合金、離(li)子(zi)註(zhu)入退(tui)火、氧(yang)化(hua)物(wu)生(sheng)長、消除(chu)應(ying)力(li)和致(zhi)密化(hua)等工(gong)藝(yi)當(dang)中(zhong)，通(tong)過(guo)快速(su)熱(re)處(chu)理(li)以改(gai)善(shan)晶(jing)體(ti)結(jie)構和光(guang)電性(xing)能，技(ji)術(shu)指標高、工(gong)藝(yi)復(fu)雜、專(zhuan)用性(xing)強(qiang)。

HTR-01A快速(su)退(tui)火爐(lu)系列采(cai)用紅外(wai)輻(fu)射(she)加(jia)熱(re)技(ji)術(shu)，可(ke)實(shi)現(xian)1-10片(pian)樣(yang)品同時(shi)進(jin)行，可實(shi)現(xian)4寸(cun)晶(jing)圓(yuan)片(pian)吋樣(yang)品快速(su)升溫(wen)和降溫，同時(shi)搭(da)配(pei)超(chao)高精度溫(wen)度(du)控制(zhi)系統(tong)，可達到的溫場均勻性(xing)，對(dui)材料(liao)的快速(su)熱(re)處(chu)理(li)(RTP)、快速(su)退(tui)火(RTA)、快速(su)熱(re)氮化(hua)(RTN)、快速(su)熱(re)氧(yang)化(hua)(RTO)及金屬(shu)合金化(hua)等研(yan)究(jiu)和生(sheng)產起(qi)到重要作(zuo)用。 主要(yao)應(ying)用領域(yu)： 快速(su)熱(re)處(chu)理(li)(RTP)，快速(su)退(tui)火(RTA)，快速(su)熱(re)氧(yang)化(hua)(RTO)，快速(su)熱(re)氮化(hua)(RT