JKZC-STC600高(gao) 真空雙靶磁(ci)控(kong)濺(jian)射儀(yi)是(shi)我公(gong)司自(zi)主新研(yan)制開發(fa)的(de)壹(yi)款高(gao)真空鍍(du)膜(mo)設備(bei)，可用(yong)於(yu)制備(bei)單(dan)層或(huo)多層鐵電薄 膜(mo)、導電薄膜(mo)、合(he)金(jin)薄膜(mo)、半導(dao)體薄(bo)膜(mo)、陶瓷薄膜(mo)、介(jie)質(zhi)薄(bo)膜(mo)、光(guang)學薄(bo)膜(mo)、氧(yang)化物(wu)薄膜(mo)、硬質(zhi)薄(bo)膜(mo)、聚四氟乙(yi)烯(xi)薄(bo) 膜(mo)等。JKZC-STC600 雙(shuang)靶磁(ci)控(kong)濺(jian)射儀(yi)配備有(you)兩(liang)個(ge)靶槍(qiang)和(he)兩(liang)個(ge)電源(yuan)，壹(yi)個射頻電源(yuan)用於(yu)非(fei)導(dao)電材料的(de)濺(jian)射鍍(du)膜(mo)，壹(yi)個直(zhi)流(liu)電源(yuan)用於(yu)導電材料的(de)濺(jian)射鍍(du)膜(mo)，可選(xuan)配強磁(ci)靶(ba)用於(yu)鐵磁(ci)性(xing)材(cai)料的濺(jian)射鍍(du)膜(mo)。

PZT-FJH30 /3真空、空氣,氣氛，矽(gui)油(you)壓(ya)電陶瓷高壓(ya)極化裝(zhuang)置(zhi)（30KV以下(xia)壓(ya)電陶瓷及壓(ya)電薄膜(mo)1-3片試(shi)樣(yang)）主(zhu)要(yao)用(yong)於(yu)30KV以下(xia)壓(ya)電陶瓷或其它(ta)壓(ya)電材料的(de)極化處(chu)理(li)，廣(guang)泛(fan)應(ying)用於(yu)高校(xiao)及從(cong)事(shi)壓(ya)電材料研(yan)究或生產的(de)科(ke)研(yan)及生產單(dan)位。 該(gai)壓(ya)電測(ce)試(shi)裝(zhuang)置(zhi)具備空氣、真空、氣氛等多種極化分(fen)式(shi)，油(you)浴(yu)極化同(tong)時或單(dan)獨極化1-3片(pian)試(shi)樣(yang)，可(ke)以測(ce)試(shi)方(fang)型(xing)、圓(yuan)、環等異性(xing)材(cai)料構件(jian)，而且可(ke)以極化不(bu)同性(xing)質(zhi)壓(ya)電薄膜(mo)材料(liao)。是國(guo)內(nei)目(mu)前(qian)壓(ya)電研究

CCDSW-300型CCD型精(jing)密(mi)絲網印刷(shua)機通過(guo)以真空吸力(li)固定膜(mo)片於(yu)多孔 CCD 工作(zuo)臺上(shang)，采(cai)用 機器(qi)內(nei)置(zhi)視(shi)覺對(dui)位系(xi)統(tong)，通過(guo)智(zhi)能(neng)獲(huo)取(qu)對(dui)位點並自(zi)動對(dui)位.然(ran)後驅動刮(gua)刀(dao)和(he)回(hui)墨(mo)刀(dao)在(zai)絲印網板(ban)上進(jin)行(xing)絲(si)印工作，高精(jing)度伺服(fu)電機定位。是(shi)壹(yi)款應(ying)用連(lian)續(xu)生產適(shi)用(yong)產業：適用於(yu)高精(jing)密(mi)CCD 影像(xiang)自(zi)動對(dui)位網(wang)印作業，在陶瓷薄膜(mo)或基(ji)片，撓性(xing)電路板(ban)，手機視窗玻(bo)璃(li)，筆記型電腦螢幕(mu)玻(bo)璃(li)中廣(guang)泛(fan)使(shi)用，是(shi)生產企(qi)業和科研(yan)所(suo)的(de)重(zhong)要(yao)設(she)備(bei)。

TBJ-01型實驗(yan)室小(xiao)型塗(tu)布(bu)機該機器(qi)可(ke)對(dui)材料(liao)進(jin)行(xing)塗(tu)液(ye)制(zhi)膜(mo)薄膜(mo)、薄膜(mo)等材(cai)料塗覆、等工(gong)藝，廣(guang)泛(fan)應(ying)用於(yu)化工(gong)、材料科學以及微(wei)納(na)加工等領(ling)域。實(shi)驗(yan)室小(xiao)型塗(tu)布(bu)機可以反(fan)復(fu),持續(xu)地(di)制備出(chu)光(guang)滑平(ping)整(zheng)而(er)無暇疵(ci)的(de)測(ce)試(shi)樣(yang)品(pin).方(fang)便(bian)實驗(yan)人員在不同的(de)底材上(shang)精(jing)確的塗布(bu)，減小以及消(xiao)除了由(you)於(yu)塗布(bu)速度(du)以及壓(ya)力(li)不同等人為因(yin)素(su)造(zao)成(cheng)的(de)誤差(cha)。塗布(bu)頭采(cai)用專用(yong)刮(gua)刀，模仿大(da)型(xing)塗(tu)布(bu)機頭確(que)保實(shi)驗(yan)出(chu)來產品(pin)與(yu)生產型(xing)塗(tu)布(bu)質(zhi)量(liang)吻合(he)，塗(tu)布(bu)頭可(ke)90度快速(su)打(da)開以便(bian)每次實

YDM-200A型壓(ya)電薄膜(mo)裝(zhuang)置(zhi)是壹(yi)款底部加熱型(xing)小(xiao)型(xing)壓(ya)電薄膜(mo)制備(bei)成套系(xi)統(tong)是由薄膜(mo)成型(xing)機，高精(jing)度粘度儀(yi)，幹(gan)燥箱(xiang)，軋輥(gun)機組合(he)而(er)成(cheng)的(de)全(quan)套設(she)備，從(cong)原(yuan)料配置，到最後合(he)成(cheng)，其最(zui)高加熱溫(wen)度(du)可(ke)以達(da)到200℃。采用(yong)真空吸附來固定基(ji)底，頂部安(an)裝(zhuang)有(you)活(huo)性(xing)碳過(guo)濾(lv)系(xi)統(tong)，可以保護實驗(yan)室環境。此(ci)款設(she)備(bei)特(te)別(bie)適(shi)合(he)高(gao)溫(wen)塗(tu)覆聚合(he)物(wu)膜(mo)和導(dao)電陶瓷膜(mo)的制(zhi)樣，是(shi)目前高等院(yuan)校和實驗(yan)開展*材料(liao)薄(bo)膜(mo)研究的重(zhong)要(yao)設(she)備(bei)之(zhi)壹(yi)。