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        1. 當前(qian)位(wei)置:首(shou)頁  >  產(chan)品中(zhong)心  >  材料(liao)電(dian)磁(ci)學性能(neng)測(ce)試儀(yi)  >  四(si)探(tan)針(zhen)測試(shi)儀  >  JKZC-ST4半導體(ti)材料(liao)四(si)探(tan)針(zhen)測試(shi)儀
          型號:JKZC-ST4
          半導體(ti)材料(liao)四(si)探(tan)針(zhen)測試(shi)儀

          描述(shu):JKZC-ST4型數字式四(si)探(tan)針(zhen)測試(shi)儀是(shi)運用四(si)探(tan)針(zhen)測量(liang)原理測(ce)試電(dian)阻率(lv)/方阻的(de)多(duo)用途(tu)綜合(he)測(ce)量(liang)儀器(qi)。該儀器(qi)設(she)計符(fu)合(he)GB/T 1551-2009 《矽單(dan)晶電(dian)阻率(lv)測定(ding)方法(fa)》、GB/T 1552-1995《矽、鍺單(dan)晶電(dian)阻率(lv)測定(ding)直流(liu)四(si)探(tan)針(zhen)法》並參(can)考(kao)美國 A.S.T.M 標(biao)準
          儀(yi)器(qi)具(ju)有(you)測(ce)量(liang)精度(du)高(gao)、靈(ling)敏度高(gao)、穩(wen)定性好、智(zhi)能(neng)化程(cheng)度(du)高、測量(liang)簡便(bian)、結(jie)構緊(jin)湊、使用方便(bian)等特點。

          • 廠商(shang)性質

            生(sheng)產(chan)廠家
          • 更(geng)新(xin)時間(jian)

            2025-12-01
          • 訪(fang)問量(liang)

            2511
          詳細(xi)介紹(shao)

          JKZC-ST4型半導體(ti)材料(liao)四(si)探(tan)針(zhen)測試(shi)儀

          關(guan)鍵詞:電(dian)阻,電(dian)阻率(lv),四(si)探(tan)針(zhen),半導體(ti)

           

           

                

           

             

            

              

          膜探(tan)頭(tou)測(ce)薄膜                  鎢針(zhen)探頭(tou)

          壹、產品概述(shu)

              JKZC-ST4型數字式四(si)探(tan)針(zhen)測試(shi)儀是(shi)運用四(si)探(tan)針(zhen)測量(liang)原理測(ce)試電(dian)阻率(lv)/方阻的(de)多(duo)用途(tu)綜合(he)測(ce)量(liang)儀器(qi)。該儀器(qi)設(she)計符(fu)合(he)GB/T 1551-2009 《矽單(dan)晶電(dian)阻率(lv)測定(ding)方法(fa)》、GB/T 1552-1995《矽、鍺單(dan)晶電(dian)阻率(lv)測定(ding)直流(liu)四(si)探(tan)針(zhen)法》並參(can)考(kao)美國 A.S.T.M 標(biao)準。

          儀(yi)器(qi)具(ju)有(you)測(ce)量(liang)精度(du)高(gao)、靈(ling)敏度高(gao)、穩(wen)定性好、智(zhi)能(neng)化程(cheng)度(du)高、測量(liang)簡便(bian)、結(jie)構緊(jin)湊、使用方便(bian)等特點。

          儀(yi)器(qi)適用於半導體(ti)材料(liao)廠器(qi)件廠、科(ke)研單(dan)位(wei)、高等院校(xiao)對(dui)導體(ti)、半導體(ti)、類(lei)半導體(ti)材料(liao)的(de)導(dao)電(dian)性能(neng)的(de)測(ce)試(shi)。

          二(er)、符(fu)合(he):

          1、符(fu)合(he)GB/T 1551-2009 《矽單(dan)晶電(dian)阻率(lv)測定(ding)方法(fa)》、

          2、符(fu)合(he)GB/T 1552-1995《矽、鍺單(dan)晶電(dian)阻率(lv)測定(ding)直流(liu)四(si)探(tan)針(zhen)法》

          3、符(fu)合(he)美國 A.S.T.M 標(biao)準

          二(er)、產(chan)品應用:

          1、測(ce)試(shi)矽類半導體(ti)、金屬、導電(dian)塑料(liao)類(lei)等硬質(zhi)材料(liao)的(de)電(dian)阻率(lv)/方阻;

          2、可(ke)測(ce)柔性材料(liao)導(dao)電(dian)薄膜電(dian)阻率(lv)/方阻

          3、金屬塗層(ceng)或薄膜、陶(tao)瓷或(huo)玻(bo)璃(li)等基底上(shang)導電(dian)膜(ITO膜)電(dian)阻率(lv)/方阻

          4、納(na)米(mi)塗(tu)層(ceng)等半導體(ti)材料(liao)的(de)電(dian)阻率(lv)/方阻

          5、電(dian)阻器(qi)體(ti)電(dian)阻、金屬導體(ti)的(de)低(di)、中(zhong)值電(dian)阻以(yi)及(ji)開(kai)關類(lei)接觸(chu)電(dian)阻進行測量(liang)

          6、可(ke)測(ce)試(shi)電(dian)池極(ji)片等箔上(shang)塗層(ceng)電(dian)阻率(lv)方阻

          二(er)、基本(ben)技(ji)術參(can)數

          1、  測(ce)量(liang)範(fan)圍(wei)

               電(dian)  阻:1×10-4~2×105 Ω   ,分辨率(lv):1×10-5~1×102 Ω

             電(dian)阻率(lv):1×10-4~2×105 Ω-cm,分辨率(lv):1×10-5~1×102 Ω-cm

             方(fang)  阻:5×10-4~2×105 Ω/□,分辨率(lv):5×10-5~1×102 Ω/□

          2、測(ce)量(liang)方式:自動(dong)或(huo)手動(dong)

          3、基本(ben)精度:±0.1/%

          4、四(si)探(tan)針(zhen)探頭(tou):

             (1)碳(tan)化鎢探(tan)針(zhen):Φ0.5mm,直線(xian)探(tan)針(zhen)間距1.0mm,探(tan)針(zhen)壓(ya)力(li): 0~2kg 可(ke)調(tiao)

             (2)薄膜方(fang)阻探針(zhen):Φ0.7mm,直線(xian)或(huo)方形探(tan)針(zhen)間距2.0mm,探(tan)針(zhen)壓(ya)力(li): 0~0.6kg 可(ke)

          5. 電(dian)源(yuan):198V -242V(AC),47.5Hz -63Hz

          6、操(cao)作環境:  0°C -40°C ,≤90%RH

          7、外形尺(chi)寸(cun):200mm(長(chang))×220 mm(寬(kuan))×100mm(高(gao))

          8、數據傳輸方式;USB

          9、軟(ruan)件方式:人(ren)性化分析(xi)軟(ruan)件界(jie)面,數據自動(dong)生(sheng)成 

           

              

                                分析(xi)軟(ruan)件(壹)

           

          產品咨(zi)詢

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